Smalto Semipermanente 147 BIG WISH – New Formula by Mesauda Nail Pro

2 disponibili

9,50 

Uno smalto semipermanente della linea MNP 100% gel polish. Ultra brillante e autolivellante con eccellente adesione. Polimerizza in 2 minuti in lampada UV (36W) o 1 minuto in lampada LED (36W).

Nuova Formula: 100% Gel Polish
Contenuto: 10 ml – 0,33 fl.oz.

Opacizzare l’unghia naturale con il Buffer 240/240 e rimuovere la polvere prodotta con un pad imbevuto in ME Gel Remover. Applicare il primer senza acidi EASY- BOND, lasciandolo asciugare all’aria per 30 secondi. Stendere uno strato di EASY-ON BASE e polimerizzare in Lampada UV per 2 minuti o LED per 1 minuto. Applicare ME Gel Polish e polimerizzare in lampada UV per 2 minuti o LED per 1 minuto. Sigillare con il top coat EASY-OFF TOP, e polimerizzare in lampada UV per 2 minuti o LED per 1 minuto. Rimuovere lo strato di dispersione con ME Gel Cleanser.

Applica dopo la polimerizzazione della base soak off MNP preferita e sigilla col top. Ideale sia su unghie naturali che per aggiungere colore alla ricostruzione.

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Uno smalto semipermanente della linea MNP 100% gel polish. Ultra brillante e autolivellante con eccellente adesione. Polimerizza in 2 minuti in lampada UV (36W) o 1 minuto in lampada LED (36W).

Nuova Formula: 100% Gel Polish
Contenuto: 10 ml – 0,33 fl.oz.

Opacizzare l’unghia naturale con il Buffer 240/240 e rimuovere la polvere prodotta con un pad imbevuto in ME Gel Remover. Applicare il primer senza acidi EASY- BOND, lasciandolo asciugare all’aria per 30 secondi. Stendere uno strato di EASY-ON BASE e polimerizzare in Lampada UV per 2 minuti o LED per 1 minuto. Applicare ME Gel Polish e polimerizzare in lampada UV per 2 minuti o LED per 1 minuto. Sigillare con il top coat EASY-OFF TOP, e polimerizzare in lampada UV per 2 minuti o LED per 1 minuto. Rimuovere lo strato di dispersione con ME Gel Cleanser.

Applica dopo la polimerizzazione della base soak off MNP preferita e sigilla col top. Ideale sia su unghie naturali che per aggiungere colore alla ricostruzione.

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